Johdatus CVD TaC -pinnoitteeseen:
CVD TaC -pinnoite on tekniikka, jossa tantaalikarbidi (TaC) -pinnoite kerrostetaan kemiallisen höyrypinnoituksen avulla substraatin pinnalle. Tantaalikarbidi on erittäin suorituskykyinen keraaminen materiaali, jolla on erinomaiset mekaaniset ja kemialliset ominaisuudet. CVD-prosessissa muodostuu tasainen TaC-kalvo substraatin pinnalle kaasureaktion avulla.
Tärkeimmät ominaisuudet:
Erinomainen kovuus ja kulutuskestävyysTantaalikarbidilla on erittäin korkea kovuus, ja CVD TaC -pinnoite voi parantaa merkittävästi alustan kulutuskestävyyttä. Tämä tekee pinnoitteesta ihanteellisen sovelluksiin paljon kuluttavissa ympäristöissä, kuten leikkaustyökaluissa ja muoteissa.
Korkean lämpötilan stabiiliusTaC-pinnoitteet suojaavat kriittisiä uunin ja reaktorin komponentteja jopa 2200 °C:n lämpötiloissa ja osoittavat hyvää vakautta. Ne säilyttävät kemiallisen ja mekaanisen stabiiliutensa äärimmäisissä lämpötiloissa, mikä tekee niistä sopivia korkean lämpötilan prosessointiin ja sovelluksiin korkeissa lämpötiloissa.
Erinomainen kemiallinen stabiiliusTantaalikarbidilla on vahva korroosionkestävyys useimmille hapoille ja emäksille, ja CVD TaC -pinnoite voi tehokkaasti estää alustan vaurioitumisen syövyttävissä ympäristöissä.
Korkea sulamispisteTantaalikarbidilla on korkea sulamispiste (noin 3880 °C), minkä ansiosta CVD TaC -pinnoitetta voidaan käyttää äärimmäisen korkeissa lämpötiloissa sulamatta tai hajoamatta.
Erinomainen lämmönjohtavuusTaC-pinnoitteella on korkea lämmönjohtavuus, mikä auttaa tehokkaasti haihduttamaan lämpöä korkean lämpötilan prosesseissa ja estämään paikallista ylikuumenemista.
Mahdolliset sovellukset:
• Galliumnitridistä (GaN) ja piikarbidista valmistetut epitaksiaaliset CVD-reaktorikomponentit, mukaan lukien kiekkojen kantajat, satelliittiantennit, suihkupäät, katot ja suskeptorit
• Piikarbidista, galliumnitridistä ja alumiininitridistä (AlN) valmistetut kiteenkasvatuskomponentit, mukaan lukien upokkaat, siemenpidikkeet, ohjausrenkaat ja suodattimet
• Teollisuuskomponentit, mukaan lukien vastuslämmityselementit, ruiskutussuuttimet, peiterenkaat ja juotosjigit
Sovelluksen ominaisuudet:
• Lämpötilastabiili yli 2000 °C:ssa, mikä mahdollistaa toiminnan äärimmäisissä lämpötiloissa
• Kestää vetyä (Hz), ammoniakkia (NH3), monosilaania (SiH4) ja piitä (Si), mikä tarjoaa suojan ankarissa kemiallisissa ympäristöissä
• Sen lämpöshokkikestävyys mahdollistaa nopeammat käyttöjaksot
• Grafiitilla on vahva tarttuvuus, mikä varmistaa pitkän käyttöiän ja estää pinnoitteen delaminoitumisen.
• Erittäin korkea puhtaustaso tarpeettomien epäpuhtauksien tai kontaminanttien poistamiseksi
• Tarkkojen mittatoleranssien mukainen pinnoite
Tekniset tiedot:
Tiheiden tantaalikarbidipinnoitteiden valmistus CVD-menetelmällä：
TAC-pinnoite, jolla on korkea kiteisyys ja erinomainen tasaisuus:
CVD TAC -pinnoitteen tekniset parametrit_Semicera:
| TaC-pinnoitteen fysikaaliset ominaisuudet | |
| Tiheys | 14,3 (g/cm³) |
| Irtopitoisuus | 8 x 1015/cm |
| Ominaisemissiivisyys | 0,3 |
| Lämpölaajenemiskerroin | 6.3 10-6/K |
| Kovuus (HK) | 2000 Hongkongin kruunua |
| Bulkkiresistiivisyys | 4,5 ohm-cm |
| Vastustus | 1x10-5Ohmia*cm |
| Lämpöstabiilius | <2500 ℃ |
| Liikkuvuus | 237 cm2/Vs |
| Grafiitin koon muutokset | -10~-20 µm |
| Pinnoitteen paksuus | ≥20 µm tyypillinen arvo (35 µm + 10 µm) |
Yllä olevat arvot ovat tyypillisiä.
