Kolmannen sukupolven puolijohdemateriaaleja ovat pääasiassa SiC, GaN, timantti jne., koska sen kaistavälin leveys (Eg) on suurempi tai yhtä suuri kuin 2,3 elektronivolttia (eV), joka tunnetaan myös laajakaistaisena puolijohdemateriaalina. Verrattuna ensimmäisen ja toisen sukupolven puolijohdemateriaaleihin, kolmannen sukupolven puolijohdemateriaaleilla on etuja korkea lämmönjohtavuus, korkea läpilyöntisähkökenttä, korkea kyllästettyjen elektronien migraationopeus ja korkea sidosenergia, jotka voivat täyttää nykyaikaisen elektroniikkatekniikan uudet korkeat vaatimukset. lämpötila, suuri teho, korkea paine, korkea taajuus ja säteilynkestävyys ja muut ankarat olosuhteet. Sillä on tärkeitä sovellusmahdollisuuksia maanpuolustuksen, ilmailun, ilmailun, öljyn etsinnässä, optisen varastoinnin jne. aloilla, ja se voi vähentää energiahäviöitä yli 50 % monilla strategisilla aloilla, kuten laajakaistaviestinnässä, aurinkoenergiassa, autoteollisuudessa, puolijohdevalaistus ja älyverkko, ja ne voivat vähentää laitteiden määrää yli 75 %, mikä on virstanpylväs ihmistieteen ja teknologian kehitykselle.
Tuote 项目 | GaN-FS-CU-C50 | GaN-FS-CN-C50 | GaN-FS-C-SI-C50 |
Halkaisija | 50,8 ± 1 mm | ||
Paksuus厚度 | 350 ± 25 μm | ||
Suuntautuminen | C-taso (0001) poikkeava kulma M-akselia kohti 0,35 ± 0,15° | ||
Prime Flat | (1-100) 0 ± 0,5°, 16 ± 1 mm | ||
Toissijainen asunto | (11-20) 0 ± 3°, 8 ± 1 mm | ||
Johtavuus | N-tyyppinen | N-tyyppinen | Puolieristävä |
Resistanssi (300K) | < 0,1 Ω·cm | < 0,05 Ω·cm | > 106 Ω·cm |
TTV | ≤ 15 μm | ||
KEULA | ≤ 20 μm | ||
Ga Kasvojen pinnan karheus | < 0,2 nm (kiillotettu); | ||
tai < 0,3 nm (kiillotettu ja pintakäsittely epitaksia varten) | |||
N Pinnan pinnan epätasaisuus | 0,5 ~ 1,5 μm | ||
vaihtoehto: 1-3 nm (hieno maa); < 0,2 nm (kiillotettu) | |||
Dislokaatiotiheys | 1 x 105 - 3 x 106 cm-2 (laskettu CL:llä)* | ||
Makrovian tiheys | < 2 cm-2 | ||
Käyttökelpoinen alue | > 90 % (reuna- ja makrovirheet poissuljettu) | ||
Voidaan räätälöidä asiakkaan vaatimusten, piin, safiirin, piikarbidipohjaisen GaN-epitaksiaalilevyn eri rakenteen mukaan. |