Väriaineen valmistuksessa käytettyjä raaka-aineita ovat yleensä hiutalegrafiitti, maaöljykoksi ja mikrokiteinen kivimuste.Mitä korkeampi grafiitin puhtaus on, sitä korkeampi on sen käyttöarvo.Grafiitin puhdistusmenetelmät voidaan jakaa fysikaalisiin ja kemiallisiin menetelmiin.Fysikaalisia puhdistusmenetelmiä ovat vaahdotus ja korkealämpötilapuhdistus ja kemiallisia puhdistusmenetelmiä ovat happo-emäsmenetelmä, fluorivetyhappomenetelmä ja kloridipaahtaminen.
Niiden joukossa korkean lämpötilan puhdistusmenetelmässä voidaan hyödyntää grafiitin korkeaa sulamispistettä (3773 K) ja kiehumispistettä 4N5:n ja korkeamman puhtauden saavuttamiseksi, mikä edellyttää alhaisen kiehumispisteen epäpuhtauksien haihtumista ja päästöjä, jotta saavutetaan puhdistus [6].Erittäin puhtaan väriaineen avainteknologia on epäpuhtauksien poistaminen.Yhdessä kemiallisen puhdistuksen ja korkean lämpötilan puhdistuksen ominaisuuksien kanssa käytetään ainutlaatuista segmentoitua komposiittia korkean lämpötilan termokemiallista puhdistusprosessia erittäin puhtaiden väriainemateriaalien puhdistamiseksi, ja tuotteen puhtaus voi olla yli 6N.
Tuotteen suorituskyky ja ominaisuudet:
1, tuotteen puhtaus≥99,9999 % (6N);
2, erittäin puhdas hiilijauheen stabiilisuus, korkea grafitoitumisaste, vähemmän epäpuhtauksia;
3, tarkkuutta ja tyyppiä voidaan mukauttaa käyttäjien mukaan.
Tuotteen pääasialliset käyttötarkoitukset:
■Erittäin puhtaan piikarbidijauheen ja muiden kiinteäfaasisten synteettisten karbidimateriaalien synteesi
■Kasvata timantteja
■Uudet lämmönjohtavuusmateriaalit elektroniikkatuotteisiin
■Huippuluokan litiumakun katodimateriaali
■Jalometalliyhdisteet ovat myös raaka-aineita
-
Piikarbidilla päällystetty epitaksiaalireaktorin piippu
-
Korkean lämpötilan ja korroosionkestävä LED Si...
-
Tynnyrireaktori nestefaasiepitaksiaan
-
Hapettumista estävä erittäin puhdas SiC-pinnoitettu MOCVD-alusta
-
Semiconductor Silicon -pohjainen GaN-epitaksi
-
Semi-ceras Barrel Reactor: Valtuuttamalla Semicondu...